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真空鍍膜機設(shè)備工藝的發(fā)展
發(fā)布時間:2013-12-30 瀏覽:  次

    真空鍍膜設(shè)備工作原理是膜體在真空室內(nèi)高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶,那么對于真空鍍膜機設(shè)備工藝的發(fā)展你了解多少呢?接下來由小篇與大家分享真空鍍膜設(shè)備是如何發(fā)展的。

 

真空鍍膜設(shè)備工作原理是膜體在真空室內(nèi)高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細密光亮。產(chǎn)品推薦:真空鍍膜機。早期真空鍍膜設(shè)備是依靠蒸發(fā)體自然散射,其結(jié)果是結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺控濺射鍍膜機濺射出大量的靶材原子,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等金屬。

 

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