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| 真空鍍膜機常見問題有哪些？ |
| 發布時間：2025-04-07 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜機在運行過程中可能會遇到多種問題，影響鍍膜質量、設備穩定性或生產效率。 下面是一些真空鍍膜機日常使用中常見的的問題及維修辦法，僅供各位學習和參考： 一、 鍍膜附著力差 可能原因：基片清潔不徹底(表面有油脂、氧化物或灰塵)。鍍膜前未進行離子清洗或清洗功率不足。基片溫度過低或過高。膜層與基材不匹配(如應力過大)。 解決方法：加強基片清洗(超聲清洗、等離子清洗)。優化離子清洗參數(如Ar離子轟擊時間、功率)。調整基片加熱溫度(如金屬膜需適當加熱)。增加過渡層(如Cr、Ti等提高結合力)。 二 、 真空抽不上去(真空度不足) 可能原因：真空泵油污染或不足(如擴散泵油氧化、機械泵油乳化)。真空系統泄漏(密封圈老化、法蘭密封不良、腔體焊縫開裂)。 泵組性能下降(如羅茨泵、分子泵故障)。氣體負載過大(材料放氣、管道污染或工藝氣體泄漏)。 解決方法：檢查并更換真空泵油，清潔泵內部。用氦質譜檢漏儀或酒精噴涂法查找漏點，更換密封圈(如O型圈)。維護或更換故障泵(如分子泵軸承損壞)。烘烤腔體或延長抽氣時間，減少材料放氣。 三 、 膜層表面出現顆粒或缺陷 可能原因：靶材或蒸發材料純度低(雜質濺射)。腔體污染(前次鍍膜殘留物或粉塵)。基片表面有異物或劃痕。工藝參數異常(如濺射氣壓過高導致微電弧)。 四、 膜層厚度不均勻 可能原因：蒸發源或濺射靶材分布不均(如電子槍掃描范圍不足)。基片公轉/自轉速度不合理。膜厚監控儀(石英晶振或光學監控)誤差。工藝氣體分布不均(如磁控濺射的氬氣流量不穩定)。 解決方法：調整蒸發源或靶材位置，優化電子槍掃描路徑。校準基片架旋轉速度。清潔或更換膜厚監控傳感器，校準參數。檢查氣體流量控制系統，確保均勻性。 解決方法：使用高純度靶材(如99、99%以上)。定期清潔腔室(特別是擋板、夾具)。加強基片前處理(過濾清洗液、無塵環境操作)。優化濺射功率、氣壓等參數。 五、 鍍膜顏色偏差(光學鍍膜) 可能原因：膜厚監控誤差(光學監控波長偏移)。折射率變化(工藝溫度或沉積速率影響)。材料成分偏離(如反應濺射中氣體比例變化)。 解決方法：重新校準光學監控系統。控制沉積速率和基片溫度穩定。調整反應氣體流量(如SiO?鍍膜中O?比例)。 六、 設備頻繁報警 常見報警類型：真空報警：泵組聯動故障、壓力傳感器異常。溫度報警：基片加熱器熱電偶損壞或冷卻水不足。電源報警：過載、短路或冷卻系統失效(如濺射電源水冷堵塞)。 解決方法：檢查PLC或控制程序邏輯，復位后重啟。更換損壞的傳感器或冷卻系統(如清理水垢)。 七、 輝光放電不穩定(如濺射鍍膜) 可能原因：靶材表面氧化或污染(導致異常放電)。磁場不均勻(磁控濺射靶材侵蝕不均)。電源匹配問題(射頻或直流電源故障)。工藝氣體比例異常(如反應濺射中O?/N?波動)。 解決方法：預濺射清潔靶材表面。檢查磁鐵排列或更換靶材。校準電源匹配器，檢查電纜連接。穩定氣體流量，安裝質量流量計(MFC)。 本文由真空鍍膜機廠家愛加真空收集整理自網絡，僅供參考 |
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