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真空鍍膜是鍍膜行業發展的必然趨勢
發布時間:2014-02-24 瀏覽:  次

    當今鍍膜行業使用的制作方式主要有兩種,一種是化學氣相沉積,也就是化學鍍膜(CVD),一種是物理氣相沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。

 

    化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學鍍膜的過程中,容易產生溶液污染,如果鍍件表層雜質多,鍍出來的效果不好。

 

    化學鍍膜需要的反應溫度很高,一般要控制在1000℃左右,但很多基體材料是無法經受如此高溫,即使是硬質合金,雖然能經受高溫,但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大,引起脆性相,性能變壞。如果在硬質合金刀具上蒸鍍Tin,基體擴散出來的碳會與溶液發生反應而形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強度低,造成刀具使用壽命縮短。

 

    真空科技研發的真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

 

    所有的鍍層材料都是在真空的環境下通過等離子體沉積在工件表面,解決了化學鍍膜中的溶液污染問題,不會產生有毒或有污染的物質,鍍出來的膜層硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性好,性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150~500℃以下,適用于多種基體材料,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

 

    由此可見,真空鍍膜是鍍膜行業發展的必然趨勢,其應用已經引起了世界各國制造業的高度重視,對環境無污染,符合現代綠色制造的發展方向,從二十世紀50年代開始,化學鍍膜就逐步被真空鍍膜取代。

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