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真空鍍膜設備行業現狀及發展趨勢
一、真空鍍膜設備行業現狀我國真空工業經過50多年的發展，已形成了門類齊全結構完整的工業體系，肩負起對國民經濟各領域進行技術裝備的重任。多年來，行業企業通過技術引進、技術改造和合資合作等方式，使企業管理水平、技術水平和產品質量都有顯著的提高。從產品產量、品種、規格和質量上，基本都能滿足國民經濟各部門和人民生活各方面的需求。
二、發展環境分析及需求預測
(1) 冶煉及冶金行業 我國爐外脫氣精煉今后要增加50%以上（根據不同品種）。真空脫氣機組的需求約為10～15億
元/年。其次是真空冶金爐，如真空感應爐、真空電弧爐和真空電阻爐等冶煉高級合金鋼的基本設備。
(2) 真空熱處理行業 我國真空熱處理行業提出2010年基本完成以少氧化熱處理為中心的技術改造，預計至少需要5000~8000 臺先進設備。
(3) 電工行業 今后我國電機制造業的目標是上品種、上檔次、降低能耗和物耗，擴大出口。
(4)電子信息行業 預測2010年我國將成為世界上第二大半導體集成電路市場。總需求量為1000多億塊，達到1000億以上的總金額。
(5) 食品工業 用于食品工業中的主要真空設備有真空冷凍干燥機、真空包裝機、真空封罐機、真空浸漬和真空保鮮裝置等。食品保鮮與加工設備，擁有巨大的市場潛力。
三、發展目標和發展重點
（1）發展目標 真空設備行業“十一·五”期間，將以年10% 的速度增長，到2010 年實現工業總產值（不變價）28億元，工業總產值（現行價）26.4億元、工業銷售產值23億元、產品銷售收入26億元、出口交貨值1.5億元，利潤總額1.4億元。
（2）發展重點 “十一·五”期間，真空行業的產業發展目標是：
①量大面廣的真空獲得產品80% 以上達到20 世
紀初國際同類產品水平。國內市場占有率90% 以上。
②低溫泵、干式泵形成系列化、規模化，國內市場占有率30%～40%。
③制備ITO膜的磁控濺射鍍膜機爭取國內市場占有率50%。
④各種真空熱處理爐達到國內市場占有率95%。
⑤大型卷繞式鍍膜機達到國內市場占有率70%～80%。
⑥各類真空檢測儀器達到國內市場占有率70%～80%。
⑦各種真空閥門達到國內市場占有率85%～90%。為此，需重點研制以下產品：
真空獲得產品
(1) 對量大面廣的旋片真空泵，滑閥真空泵、羅茨真空泵的返油、漏油，振動和噪聲要加強研究予以解決，以便使其綜合水平接近國際同類產品先進水平。
(2) 研發寬量程、低返油率且能獲超高真空的油擴散真空泵。使其泵功能擴大、滿足用戶需要。
(3) 研發出節能節水高效水蒸汽噴射泵，以滿足冶金、石化等行業的要求。
(4) 研究開發磁流體軸承、陶瓷軸承在分子泵中的應用，提高分子泵的可靠性和使用壽命。
真空應用設備
(1) 對真空冶煉爐、真空熱處理爐、真空浸漬設備和真空鍍膜機等大型成套設備，研究完善向機電一體化方向發展。
(2) 研發出低溫對流加熱和等溫淬火的高壓氣淬真空熱處理爐，增加品種，滿足用戶的需求。
真空檢測儀器
(1) 研究真空計向一體化、系統化和智能化發展的方向，為提高精度，滿足自動化的需要。
(2) 研究提高氦質譜檢漏儀的靈敏度，并向小型攜帶式（電池驅動）方向發展。
重點項目
(1) 大力開展低溫泵、各種結構的干式真空泵的研究開發工作。并盡快形成系列化生產規模。以滿足信息、生物、醫藥和食品等行業需要，減少進口。
(2) 進一步完善制備ITO膜的磁控濺射鍍膜機的功能、提高綜合水平滿足市場需要。
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