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| 蒸發鍍膜設備運行與維護 |
| 發布時間：2014-03-19 瀏覽： 次 |
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蒸發鍍膜設備工作方式就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發、升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝.
在真空條件下成膜可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。
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