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| 電子行業(yè)真空鍍膜靶材有哪些？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-07-17 瀏覽： 次 |
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由于靶材種類繁多，常用靶材一般通過真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉、真空電子轟擊熔煉，真空熱壓，氣體保護(hù)熱壓，熱等靜壓等冶金手段制造，加工工藝視材料的物理特性而定。 根據(jù)材料組織結(jié)構(gòu)的不同，可獲得單相、多相晶體組織，也可獲得固溶體或金屬間化合物，還根據(jù)需要獲得有序或無序結(jié)構(gòu)，這些對制成薄膜都是相當(dāng)重要的，因?yàn)橐粋€(gè)好的二維結(jié)構(gòu)的薄膜很大程度上取決于三維結(jié)構(gòu)的靶材。 為了在靶材制備過程中質(zhì)量控制，一般采用輝光放電質(zhì)譜儀、原子吸收光譜儀、電磁感應(yīng)偶合等離子體光譜儀、X射線顯微熒光光譜儀、掃描電子顯微探針、X射線衍射儀等設(shè)備進(jìn)行質(zhì)量追蹤。 為了獲得理想的薄膜，應(yīng)要求靶材在幾何尺寸和形狀上非常均勻，有時(shí)為了使用方便還需將靶材與靶托進(jìn)行Bonding。 靶材與當(dāng)代許多先進(jìn)科學(xué)技術(shù)有關(guān)，它的應(yīng)用十分廣泛，如在電子薄膜、光學(xué)薄膜、機(jī)械薄膜、防護(hù)薄膜、裝飾薄膜等方面，而且，這些領(lǐng)域?qū)Π胁牡男阅芤笤絹碓絿?yán)格。 當(dāng)高速粒子實(shí)現(xiàn)濺射可在任何物質(zhì)上發(fā)生，尤其高熔點(diǎn)、低氣壓和化合物等物質(zhì)都可以制成靶材，金屬及合金、難熔金屬、硅化物、氧化物、氮化物、貴金屬及其合金、磁性金屬及合金、稀土材料。   愛加真空專業(yè)銷售和維修各種進(jìn)口真空鍍膜設(shè)備以及美國Polycold捕集泵銷售、維修，歡迎來電咨詢洽談! 相關(guān)閱讀 |
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