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濺射真空鍍膜的優點是怎樣的?
發布時間:2014-09-09 瀏覽:5534  次

  以濺射的辦法來進行真空鍍膜,因為它鍍膜方式不同,一樣的鍍材所制備出來的薄膜效果會不同,雖肉眼不能看出,但確實有一定優勢。

  膜厚穩定性較好,因為濺射鍍膜膜層的厚度和靶電流以及放電電流具有非常大的關系,電流越高,濺射效率也就越大,相同時間內,所鍍膜層的厚度相對就大了,因為只要把電流數值控制好,需要鍍多厚,或者多薄的膜層都可以了。

  當然這個厚度是在可允許的范圍內,而且控制好電流,無論重復鍍多少次,膜層厚度都不會變化,膜厚的穩定性可歸結為膜厚良好的可控性和重復性。

  膜層的結合力強,在濺射過程里,有部分電子會撞擊到基材表面,激活表面原子,且產生清潔作用,而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發所獲得的能量高出1到2個數量級。

  帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時,有更多的能量可以傳遞到基材上,產生更多的熱能,使被電子激活的原子加速運動,與部分鍍材原子更早互相溶合到一起,其他鍍材原子緊隨著陸續沉積成膜,加強了膜層與基材的結合力。

  鍍材的范圍也很廣泛,因為濺射膜是通過氬離子高速轟擊使鍍材濺射出來,不像蒸發鍍膜由于熔點的原因而限制只能使用熔點比較低的鍍材,而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質都可以成為鍍材。

  由此可以看出,濺射真空鍍膜確實要比蒸發真空鍍膜的效果較好,其原理不同決定著濺射制備的膜層厚度更穩定,結合力更強,鍍材的范圍也就更廣。

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