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| 濺射真空鍍膜的優點是怎樣的？ |
| 發布時間：2014-09-09 瀏覽： 次 |
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以濺射的辦法來進行真空鍍膜，因為它鍍膜方式不同，一樣的鍍材所制備出來的薄膜效果會不同，雖肉眼不能看出，但確實有一定優勢。 膜厚穩定性較好，因為濺射鍍膜膜層的厚度和靶電流以及放電電流具有非常大的關系，電流越高，濺射效率也就越大，相同時間內，所鍍膜層的厚度相對就大了，因為只要把電流數值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了。 當然這個厚度是在可允許的范圍內，而且控制好電流，無論重復鍍多少次，膜層厚度都不會變化，膜厚的穩定性可歸結為膜厚良好的可控性和重復性。 膜層的結合力強，在濺射過程里，有部分電子會撞擊到基材表面，激活表面原子，且產生清潔作用，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發所獲得的能量高出1到2個數量級。 帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時，有更多的能量可以傳遞到基材上，產生更多的熱能，使被電子激活的原子加速運動，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續沉積成膜，加強了膜層與基材的結合力。 鍍材的范圍也很廣泛，因為濺射膜是通過氬離子高速轟擊使鍍材濺射出來，不像蒸發鍍膜由于熔點的原因而限制只能使用熔點比較低的鍍材，而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質都可以成為鍍材。 由此可以看出，濺射真空鍍膜確實要比蒸發真空鍍膜的效果較好，其原理不同決定著濺射制備的膜層厚度更穩定，結合力更強，鍍材的范圍也就更廣。 本文由愛加真空(http://www.bnzr.net.cn)收集整理.愛加真空專業維修各種進口真空鍍膜機，歡迎來電咨詢! 相關閱讀 |
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