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| 真空鍍膜電化學清洗知識 |
| 發布時間：2014-11-07 瀏覽： 次 |
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電化學清洗是在真空鍍膜生產線上常用的一種表面凈化方法，分為兩種，一種是點解侵蝕，一種是電化學拋光。 電解侵蝕對于侵蝕時間和溶液的要求比較低，比化學侵蝕的效果更好，它分為陽極和陰極，陽極侵蝕是鍍件接陽極，在50~60℃下通過氧氣氣泡的沖擊把氧化物去掉，而陰極侵蝕是鍍膜接陰極，通過氫氣把氧化物還原的同時由于氫氣溢出產生的沖擊力把氧化層去掉。 而陽極侵蝕是最常用的方法，不過對于復雜的鍍件，會出現過度侵蝕和不均勻侵蝕的問題，而陰極侵蝕雖然不會出現過度侵蝕，但會出現滲氫發脆。 電化學拋光的電解液和點解侵蝕是不一樣的，不過原理差不多，電化學拋光針對金屬的表面凈化效果更好，鍍件接陽極，用面積大于鍍件5倍以上的銅或鋼接陰極，兩極之間距離50~120mm，讓電場集中到高點處使金屬表面的氧化層去除，達到電化學拋光凈化的效果，金屬鍍件表面會變得很均勻，有光澤。
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