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| ?真空鍍膜設備是怎么工作的？ |
| 發布時間：2024-11-28 瀏覽： 次 |
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?真空鍍膜設備?的工作原理主要基于物理沉積現象，具體分為蒸發和濺射兩種主要方式。 ?蒸發鍍膜?：在真空狀態下，通過電阻加熱、電子槍加熱等方式使靶材(待鍍材料)蒸發，蒸發的原子在真空環境中沉積在基片(待鍍物體)上，形成薄膜。這種方式適用于金屬、合金等材料的鍍膜。 ?濺射鍍膜?：磁控濺射是一種常見的濺射鍍膜方式。在真空室中，通過磁鐵和電場的作用，使惰性氣體(如氬氣)電離產生等離子體。 等離子體中的離子在電場作用下加速撞擊靶材，使靶材表面的原子濺射出來并沉積在基片上形成薄膜。這種方式適用于制備高純度的金屬膜、化合物膜等。 真空鍍膜設備的應用領域 真空鍍膜設備廣泛應用于半導體、顯示、光伏、工具鍍膜、裝飾鍍膜和功能鍍膜等領域。其高純度和均勻性的特點使其在電子、光學、裝飾等行業中有重要應用。 |
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