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真空鍍鈦技術發展歷程和原理
發布時間:2014-07-23 瀏覽:  次

  一、 PVD(鍍鈦)技術的發展與應用

  PVD(物理氣相沉積)技術運用始于二十世紀七十年代末,起初是用在提高機械力學性能的硬質膜方面,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。

  最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國工具制造業的高度重視,人們在開發高性能、高可靠性涂層設備的同時,也在硬質合金、刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

  PVD工藝對環境沒有污染,符合現代環境保護的發展方向。

  鍍鈦工藝處理溫度可控制在150~500℃以下,因此鍍鈦工藝可用于多種材質基體的涂層,不僅具有多姿多彩的裝飾效果,更重要的是采用PVD技術可使涂層具有優異的理化特性,大幅度強化基體表面諸如硬度、摩擦系數等物理特性指標。

  二、離子真空鍍膜技術的特點和用途

  真空離子鍍鈦應用的就是PVD技術。

  金屬在特定環境下(壓力,溫度,電磁場等)與各種氣體(氬氣,氮氣,氧氣及乙炔氣等)產生綜合作用形成等離子體,經過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。

  該鍍鈦膜層細密均勻,結合力強,硬度高,防腐耐磨,具有良好的導電性和自潤滑性能,同時色澤豐富多樣。

  因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段,在裝飾上同樣是提升檔次,提高附加值的最佳選擇。

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